磁控離子濺射儀 型號:XZ1-SBC-16

主要適用于掃描電鏡成像中非導電樣品的鍍膜,
適用于不耐高溫的樣品，無熱損傷;也可適用于電極，金屬鍍膜等。

磁控離子濺射儀 型號:XZ1-SBC-16

技術參數(shù)
靶材 適合Au,Au/Pd,Pt,Pt/Pd
工作腔室：
內(nèi)徑105mmx120mm
樣品臺(可定制)：
可以裝載12個SEM樣品座，高度可調(diào)范圍為60mm
旋轉傾斜樣品臺(選配)
抽氣速率：1L/s
極-限真空：5*10的負2次方Pa
工作氣體：空氣或氬氣
配置清單：
靶材(金或者鉑)，機械泵，玻璃罩，油霧過濾器各-個

磁控離子濺射儀 型號:XZ1-SBC-16

主要適用于掃描電鏡成像中非導電樣品的鍍膜,
適用于不耐高溫的樣品，無熱損傷;也可適用于電極，金屬鍍膜等。

磁控離子濺射儀 型號:XZ1-SBC-16

技術參數(shù)
靶材 適合Au,Au/Pd,Pt,Pt/Pd
工作腔室：
內(nèi)徑105mmx120mm
樣品臺(可定制)：
可以裝載12個SEM樣品座，高度可調(diào)范圍為60mm
旋轉傾斜樣品臺(選配)
抽氣速率：1L/s
極-限真空：5*10的負2次方Pa
工作氣體：空氣或氬氣
配置清單：
靶材(金或者鉑)，機械泵，玻璃罩，油霧過濾器各-個